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刻蚀 相关话题

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近期,大阪公立大学的研究团队成功利用金刚石为衬底,制作出了氮化镓(GaN)晶体管,其散热性能是使用碳化硅(SiC)衬底制造相同形状晶体管的两倍以上,有望应用于5G通信基站、气象雷达、卫星通信、微波加热、等离子体处理等领域,该研究成果已发表在“Small”杂志上。 随着半导体技术不断发展,功率密度和散热等问题日益凸显,业界试图通过新一代材料解决上述问题。 据悉,金刚石具备极强的导热性能,氮化镓具有宽带隙和高导电性等特性,居于上述特性,以金刚石为衬底的氮化镓晶体管被寄予厚望。 在最新研究中,大阪公
在红外探测器的制造技术中,台面刻蚀是完成器件电学隔离的必要环节。而对于结构复杂的焦平面阵列来说,一个良好的刻蚀工艺不仅要求高的深宽比,还要达到高度各向异性和低损伤等目标,这给器件制造带来了巨大的挑战。刻蚀副产物在台面侧壁引入漏电流的表面通道,使得InAs/GaSb超晶格红外探测器的性能恶化,尤其是长波和甚长波的器件,由于具有更窄的带隙,受表面漏电流的影响更大。因此,探究刻蚀机理和优化刻蚀工艺就显得至关重要。 据麦姆斯咨询报道,近期,哈尔滨工业大学、中国科学院半导体研究所和中国科学院大学组成的科
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